金剛石拋光液是利用聚晶金剛石的特性，在研磨拋光過程中保持高切削效率的同時不易對工件產生劃傷，它主要用于蘭寶石襯底、光學晶體、硬質玻璃和晶體、超硬陶瓷和合金、磁頭、硬盤、芯片等領域的研磨和拋光。單晶金剛石拋光液具有良好的切削力，加工成本相對較低，它被廣泛應用于超硬材料的研磨拋光。納米金剛石拋光液是利用納米金剛石球形狀和細粒度粉體能達到的拋光效果，不僅具有良好的分散穩(wěn)定性，還能保持長時間不沉降，并且粉體在分散液中能不發(fā)生團聚，它主要用于硬質材料的拋光過程，可使被拋表面粗糙度低于0.2nm。

金剛石噴霧拋光劑是由金剛石微粉制成的液體拋光劑。金剛石噴霧拋光劑廣泛應用于寶石、玻璃、陶瓷、硬質合金及各類金屬的高光亮度拋光，用于金相試樣拋光時，更加凸顯其特的性，能夠使試樣在短時內更真實地顯示其金相組織。將金剛石微粉制成液體狀態(tài)有利于以霧狀噴灑出的金剛石顆粒在拋光織物表面均勻分布，且對拋光布的濕潤性好。拋光不同的材料可選用不同粒度的拋光劑進行拋光。

金剛石有多晶和單晶兩種，對于金相應用，兩種都可以使用，但多晶金剛石的切削能力更強，是單晶的2-3倍，甚至更多。對于要求較高，為了獲得較好的制備結果，應使用多晶金剛石。多晶金剛石隨著時間分解，連續(xù)產生很多小的磨粒邊緣，可提供非常高的材料去除率的同時僅產生很淺的劃痕。單晶金剛石隨著時間的推移會越來越圓，失去其磨削能力。

拋光冷卻潤滑液，對金相研磨拋光過程起到良好的冷卻和潤滑作用，同時還有防腐功能，可有效減少研磨拋光介質顆粒對材料表面的損傷，并能提高拋光效果。 對于磨料顆粒極易嵌入到樣品表面的較軟的材料，使用拋光膏，同時對樣品施加的力值小一些，10N左右，磨盤轉數(shù)慢一點，可有效減少嵌入。

金剛石拋光劑所用的金剛石微粉多為人造金剛石，其由C原子構成，其中的C原子都以共價鍵結合，原子排列的基本規(guī)律是每一個C原子的周圍都有4個按照正四面體分布的C原子。這些C原子交錯整齊地排列成四面體結構，每個C原子都與其他4個C原子直接緊密連接，形成牢固的結晶體，因而特別堅硬（自然界中硬物質）。其硬度可達莫氏硬度10級，顯微硬度比剛玉（即Al2O3）高150倍，具有的耐磨性，超過剛玉90倍。因此金剛石拋光劑可以用來拋光非常堅硬的材料如硬質合金、陶瓷等，這是氧化鋁等拋光劑所不能及的。

在使用時，可通過噴霧頭或鶴嘴瓶將適量金剛石拋光液均勻噴灑在拋光布上，切勿用量太多。有些人盲目地認為噴灑的拋光液越多則拋光越快，這是一種長久以來的誤解。實際上，隨著拋光液用量的增加，因為拋光液隔離了試樣拋光面和拋光布反而導致了拋光效率的下降，同時浪費拋光液，增加生產成本。切勿在同一張拋光布上混用不同粒度的拋光液，這將導致難以拋除的劃痕。對于一些需要查看真實孔隙率的試樣則需要用3μm的拋光液進行較長時間的拋光才行。

金剛石拋光劑含有經過精選的多晶金剛石和特殊的研磨介質，用于各種金屬、陶瓷、符合材料及玻璃、寶石等的研磨和拋光，特別適用于金相研磨和拋光。另外金剛石拋光劑不含任何氟利昂，對環(huán)境無害，屬于環(huán)保產品。

金剛石拋光劑廣泛應用于寶石、玻璃、陶瓷、硬質合金及淬火鋼材的高光亮度研磨拋光。用于金相拋光時，更顯其的，經研磨拋光后的試樣更真實地顯示其金相組織。不同的材料研磨拋光可選用不同粒度的產品。用于拋磨金相試樣中鑄鐵中石墨，鋼鐵中夾雜，鋼鐵中氧化層、滲碳層、涂層時能更真實地顯示其金相。

優(yōu)良的制備工藝使其具備分散的優(yōu)良性能。研磨液中的金剛石磨粒能較長時間處于均勻懸浮的狀態(tài)，具備優(yōu)良的分散性，且能很好的附著在磨拋載體(如磨盤，砂紙，拋光布)上，因其粘結性使磨拋設備即使在高速運轉中金剛石磨粒也不會流失，損耗極低。高的磨削率和去除率，與普通拋光液相比，在拋質量等同情況下，用量節(jié)省30%，時間節(jié)省60%。