真空鍍膜設備存有著氣密性差的問題,假如鍍膜設備維護保養(yǎng)進行后,能做一次氣密性試驗,就可以規(guī)避許多不合格產(chǎn)品的造成,做到節(jié)省成本費用的效果。
對比幾個真空鍍膜機的檢漏方法:
氦質譜檢漏該工藝是真空鍍膜機真空檢漏技術里不可缺少的一種技術,因為檢漏率,簡單易使用,儀器設備反映靈敏,,不容易受別的氣體的影響,在檢漏中獲得了廣泛運用。氦質譜檢漏儀是依據(jù)質譜學基本原理,用氮氣作示漏氣體做成的氣密性檢測儀器。由離子源、解析器、回收器、冷陰極水解規(guī)構成的質譜分析室和吸氣系統(tǒng)及電氣一部分等構成。質譜分析室里的鎢絲發(fā)送出去的電子,在房間內(nèi)不停地震蕩,并與房間內(nèi)空氣和經(jīng)漏孔進入到屋內(nèi)的氦氣互相撞擊使其水解成共價鍵,這種氦離子在加快靜電場的作用下進入到磁場,因為洛倫茲力作用產(chǎn)生偏轉,產(chǎn)生圓弧狀軌道,更改加速電壓可使不一樣品質的離子通過磁場和接受縫抵達接收極而被檢驗。噴氦法、吸氦法是氦質譜檢漏儀在檢漏中經(jīng)常使用的這兩種方式。采用真空法檢漏,鍍膜機不需要停機,直接在真空泵的旁路利用波紋管接入檢漏儀,在懷疑有漏的地方噴氦氣,即可完成檢漏。
有些真空鍍膜機真空計的讀數(shù),與氣體種類有關,比如熱偶計,電離真空計。選用適當?shù)臍怏w或液體做示漏物質,這些真空計便成了探測器,一般鍍膜機上都有真空計,使用起來很方便,也是常用到的一種檢漏方法。用于熱偶計的示漏物質有,二氧化碳,丁烷,酒精等熱偶計反應較慢,觀察要很仔細。用于電離計的示漏物質有氦,氬,酒精等。
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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。 對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,終形成薄膜。
真空鍍膜機為什么會越來越慢這種情況有兩種可能
1、設備內(nèi)部由于長時間鍍膜導致有些臟東西在加熱時放氣,所以這種情況需要維護,即把內(nèi)部屏蔽板拆下噴砂或脫膜,清理。
2、由微小的滲漏,沒有發(fā)現(xiàn),尤其是各個傳動部位密封,這種情況就是比較難查,如果沒有檢漏儀,就只能一部分一部分拆卸或用盲板逐步替換予以排除。也有人用注射針頭注射酒精觀察真空計的變化檢查,但一般漏的不大時不好判斷,至于你說的真空1.9的那個其實也并不高,還有就是漏率是按照你的設備體積以及單位時間的真空下降程度來算的不是按照真空值計算的,比如你的真空泵抽速好,抽氣能力強就有可能克服微漏而使真空顯示較高的數(shù)值。
真空鍍膜機的工作原理如下:
在鍍膜領域,鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個重要因素。因此,當評價某薄膜樣品的性能時,需要檢測該薄膜樣品不同厚度下的性能。對于真空鍍膜的情形,這往往需要進行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題:,不同次生長的樣品,儀器的狀態(tài)不同,以至于影響薄膜樣品性能的因素可能不僅僅是厚度;其次,真空鍍膜實驗裝取樣品需要重新進行真空的獲得,非常耗時。增加了生產(chǎn)和檢測的成本。
因此,提供一種多功能磁控濺射鍍膜系統(tǒng),本系統(tǒng)由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成,可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍,并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸發(fā)鍍膜與手套箱組合,實現(xiàn)蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作,使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個完整的可控環(huán)境氛圍的系統(tǒng)中,消除有機大面積電路制備過程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響,保障了、大面積有機光電器件和電路的制備。
真空鍍膜設備應用十分廣泛,如今在我們的生活中到處可見,是的一項技術。但是真空鍍膜設備在使用一段時間后,表面就會留下灰塵影響真空鍍膜的整體效果。
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