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888.00元主要技術指標： ★ 爐管數：1～4管 ★ 配工藝管口徑：Φ90～360 mm (3～12英寸) ★ 恒溫區(qū)長度： 760～1000 mm±1.0℃ (300～800℃) 760～1000 mm±0.5℃(800～1280℃) ★ 單點穩(wěn)定性： ±1...08月29日 -
888.00元用途： 立式擴散爐用于半導體生產工藝過程中的高溫擴散，燒結，退火等工藝。該系統具有儀表控制系統，具有高密封性和抗腐蝕性的高純氣路系統。立式退火爐主要適合于8英寸工藝硅片的處理。 ..08月29日
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擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統、控制系統、超凈化操作系統等組成。選用工控機微..11月04日
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擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統、控制系統、超凈化操作系統等組成。選用工控機微..09月27日
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全球與中國市場擴散爐趨勢展望與投資機遇分析報告2017年版 ※※※鴻※※※晟※※※信※※※合※※※研※※※究※※※院※※※※ 【最新修訂】：2017年10月 【出版機構】：鴻晟信合研10月23日
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中國擴散爐行業(yè)發(fā)展前景與投資戰(zhàn)略規(guī)劃建議報告?2020～2025年 ≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤≥≤ 節(jié)假日24小時咨詢熱線：139 2163 9537（兼并微信）（隨時來電有09月18日
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2020～2025年?中國擴散爐行業(yè)運行態(tài)勢及前景規(guī)劃建議報告 【報告目錄】 第一章 2019年世界擴散爐行業(yè)發(fā)展態(tài)勢分析 14 第一節(jié) 2019年世界擴散爐市場發(fā)展狀況分析 14 一、世界擴散爐行業(yè)09月18日
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中國擴散爐市場發(fā)展態(tài)勢與前景策略分析報告2021-2026年【報告編號】: 346157【出版時間】: 2021年10月【出版機構】: 中研智業(yè)研究院【交付方式】: EMIL電子版或特快專遞 【報告價格】:【紙質..09月18日
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888.00元SIC氧化爐 擴散爐 ★ 爐管數：1～4管 ★ 配工藝管口徑：Φ90～360 mm (3～12英寸) ★ 恒溫區(qū)長度： 760～1000 mm±1.0℃ (300～800℃) 760～1000 mm±0.5℃(800～1280℃) ★ 單點穩(wěn)定性： ±1.0℃/24h..08月29日
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888.00元設備用途：擴散爐用于大規(guī)模集成電路、電力電子、光電器件、光導纖維等行業(yè)的氧化、擴散、燒結、合金等工藝。 設備特點：單元組合方式。根據工藝的不同，可以在主機的基礎上配氣源柜、超凈..08月29日
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面議擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工硅片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統、控制系統、超凈化操作系統等組成。選用工控機微..11月09日
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