氧化鋁微粒是拋光液中的主要成分，其顆粒大小決定了拋光液的磨料性能。較小的顆粒可提供更細膩的拋光效果，而較大的顆粒則適用于粗糙表面的拋光。此外，氧化鋁微粒還具有高硬度和耐磨性，能夠有效去除表面的劃痕和瑕疵。

穩(wěn)定劑在拋光液中起到穩(wěn)定和調(diào)節(jié)pH值的作用。它能夠防止氧化鋁微粒在拋光過程中團聚和沉積，保持拋光液的均勻性和穩(wěn)定性。同時，穩(wěn)定劑還能調(diào)節(jié)拋光液的酸堿度，以適應不同材料的拋光需求。

優(yōu)點：

1.懸浮性好，不易沉淀，使用方便。

2.顆粒分散均勻，不團聚，軟硬度適中，有效避免拋光過程中由于顆粒團聚導致的工件表面劃傷缺陷。

3.運用拋光過程中的化學新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質(zhì)量。

4.分散性好、乳液均一，程度提升拋光速率的同時降低微劃傷的概率，可以提高拋光精度。

5.無粉塵產(chǎn)生，關(guān)注環(huán)保和人體健康安全。

使用方法:

1.在配比好的溶液里面直接攪拌均勻，到攪拌分散開為止(5~10分鐘)。
2.按照1:3比例稀釋，在耐堿容器中先加水再加拋光液，攪拌至完全懸浮為止。
3.根據(jù)使用方式調(diào)拋光機的轉(zhuǎn)速:a)單面拋光:50-70RPM。b)雙面拋光:20-30RPM。
4.調(diào)拋光機的壓力:380-400g/cm2(單拋)、250-280g/cm2(雙拋)。
5.選擇拋光墊:聚氨酯，邵氏A硬度在85以上。

氧化鋁拋光液和研磨材料適用于金相、巖相、復合材料的研磨及拋光等表面處理：
1、手機殼，陶瓷，玻璃、水晶、光學玻璃等振動拋光（機器拋光、滾動拋光）、手動拋光（研磨拋光）等。人造寶石、天然寶石、鋯石、玉石、翡翠、瑪瑙。
2、單晶硅片等半導體、壓電晶學、光學晶體、光學玻璃、光學塑料、計算機硬盤、光學鏡頭、單芯光纖連接器、微晶玻璃基板、
3、鋁材、銅材、不銹鋼等金屬表面研磨拋光。
4、汽車油漆打磨拋光，樹脂拋光等，油漆表面、亞克力、非鐵金屬的表面拋光。
5、 劃痕去除：寶石、首飾、微晶玻璃、鋁板、鋼板、塑料殼、壓克力等劃傷劃痕；汽車，船舶等表面油漆出現(xiàn)的輕微劃痕等只要涂上少許拋光液，用海綿布或者拋光墊等在其表面來回拋磨，很快就光亮如新，無一點擦痕。

當我們使用了這種拋光液之后，它可以通過純粹的機械拋光快速地去除材料，達到不錯的表面處理效果。而如果選用其它種類的拋光液，比如具有弱堿性的硅膠拋光液，那就要通過化學/機械的拋光方法與材料表面形成反應層。雖然柔軟的硅膠去除反應層也可以得到一個的表面，但是在工藝上無疑麻煩了許多。使用氧化鋁拋光液可以算是一次性拋光成型的。所以大家在大部分的情況下，比如我們在做金相時，往往都是使用這種可以通過純粹機械拋光的拋光液。