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回收真空鍍膜機(jī)生產(chǎn)線設(shè)備 |
面向地區(qū) |
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真空鍍膜機(jī)具有高真空度、高沉積速率、均勻性好等優(yōu)點(diǎn)，可以在不同材料和形狀的物體上進(jìn)行鍍膜。它在電子、光學(xué)、材料等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用，如光學(xué)鍍膜、金屬鍍膜、硬質(zhì)涂層等。
真空鍍膜機(jī)通常由真空腔體、加熱系統(tǒng)、蒸發(fā)源、濺射源、離子源、氣體控制系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等組成。在真空腔體中，通過抽氣系統(tǒng)將氣體抽走，形成高真空環(huán)境。加熱系統(tǒng)用于提供蒸發(fā)源或?yàn)R射源所需的熱能，使材料蒸發(fā)或?yàn)R射到
真空鍍膜設(shè)備是利用真空環(huán)境下的物理過程，如蒸發(fā)、濺射和離子鍍等，將金屬或非金屬材料沉積在不銹鋼表面。
濺射設(shè)備是通過將金屬靶材置于氣體放電環(huán)境中，利用靶材的離子轟擊效應(yīng)，使金屬離子沉積在不銹鋼表面。
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