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DL-78型單晶爐的熱場和減壓工藝\1前言集成電路生產(chǎn)的發(fā)展一方面不斷縮小元件尺寸，以提高集成度；另一方面不斷擴大硅片直徑以減少芯片的離故度和降低成本。相應(yīng)地，作為集成電路基礎(chǔ)材料的硅單晶生產(chǎn)也在不斷地提高其技術(shù)質(zhì)量指標(biāo)和增大單晶錠的直徑和長度，以滿足電路的要求和降低自身的生產(chǎn)成本。在國外市場上，硅晶體直徑大致每4～5年增長1時（25．4mm），相應(yīng)地，生產(chǎn)投料重也由1公斤逐漸發(fā)展為3～5公斤、8～12公斤、15～劉公斤和朋～6O公廳等幾個等級。在這發(fā)展中，有兩個條件是相輔相成、共同進(jìn)步的，這是單晶爐和拉晶工藝。

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電氣特點(1)本系統(tǒng)采用PLC，工業(yè)彩色觸摸屏，因此系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡單，具有用電省, 發(fā)熱小的特點。系統(tǒng)可靠性很高，不會死機。同時觸摸屏和PLC間工作，連接僅僅使用1根通訊線即可。(2) 控制軟件、系統(tǒng)能按照工藝員寫入的工藝文件，進(jìn)行半自動拉晶，可以在顯示器上修改，立即生效，操作方便。自動工藝可以單步執(zhí)行也可以連續(xù)自動流程。在溫度閉環(huán)上增加功率限制，信號故障判斷診斷功能，可以排除觀察孔污染，信號被干擾，加熱電源故障，加熱器短路，加熱器電阻突變，人工輸入失誤等錯誤。(3) 工作站監(jiān)控系統(tǒng)、本系統(tǒng)還配置有工作站監(jiān)控系統(tǒng)，用一臺PC機可同時監(jiān)控8臺單晶爐，采用RS422高速通訊，光電隔離，可靠性高。分子泵回收，真空泵回收，真空流量計回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，直拉式單晶生長爐的制作方法、專利名稱：直拉式單晶生長爐的制作方法、技術(shù)領(lǐng)域：本發(fā)明涉及一種直拉式單晶生長爐。背景技術(shù)：圖1為切克勞斯基(直拉)法制造硅單晶的單晶爐剖面示意圖；圖1-2 中，l為爐筒，2為保溫蓋，3為保溫蓋，4為保溫材津牛，5為保溫罩，6為 加熱器，7為水套，8為石英堝，9為導(dǎo)流筒，IO為爐底護(hù)盤、12為輸 入管、11為分布有出氣孔11-1的環(huán)形氣體分布器、13為排氣口。直拉硅單晶在生長過程中需要向爐內(nèi)不斷充入，并與爐內(nèi)生成的 一氧化硅及雜質(zhì)粉塵混合，由于單晶爐內(nèi)的加熱器和坩堝支持器等均由石 墨制成， 一氧化硅易腐蝕所述石墨制成的器件且雜質(zhì)粉塵易吸附在這些器 件上，從而影響了單晶爐的使用壽命。