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單晶爐熱場的設(shè)計與仿真單晶直徑在生長過程中可受到溫度,提拉速度與轉(zhuǎn)速,坩堝跟蹤速度與轉(zhuǎn)速,保護氣體的流速等因素的影響。其中溫度主要決定能否成晶,而速度將直接影響到晶體的內(nèi)在質(zhì)量,而這種影響卻只能在單晶拉出后通過檢測才能獲知。溫度分布合適的熱場,不僅單晶生長順利,而且品質(zhì)較高;如果熱場的溫度分布不是很合理,生長單晶的過程中容易產(chǎn)生各種缺陷,影響質(zhì)量,情況嚴重的出現(xiàn)變晶現(xiàn)象生長不出來單晶。
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(4) 電氣硬件設(shè)置、本系統(tǒng)的電氣柜內(nèi)布局采用模塊化集中管理,各個模塊間連接簡單,單個模塊可以帶電維修,電機保護采用空氣開關(guān)和絲結(jié)合的方法便于操作和維護。同時主要的電氣點都能簡單的在端子板上查出。整個機箱布局合理,簡單。同時帶有雙色聲光報*燈進行提示。分子泵回收,真空泵回收,真空流量計回收,plc編程回收,控制屏回收,離子泵回收,渦輪分子泵回收,螺桿真空泵回收,渦旋高真空泵回收,所述氣流導向裝置20的中軸孔2-1與該爐的石墨中軸21活 動密封連接,以防止因該中軸孔2-1與石墨中軸21之間的間隙而漏氣,影 響排氣效果,氣流導向裝置20的電極孔2-2分別與該爐的電極柱15密封連 接,以防止因該電極孔2-2與電極柱15之間的間隙而漏氣,影響排氣效果。所述氣流導向裝置20的上端部2-4的外壁與該爐的保溫 筒17密封連接,以防止因氣流導向裝置20的上端部2-4的外壁與該爐的 保溫筒17之間的間隙而漏氣,影響排氣效果。所述氣流導向裝置20各通氣孔2-3與該爐的排氣口 13通過通 氣管19相連通,以提高排氣效果。所述氣流導向裝置20由石墨制成,石墨具有強度高、抗熱震性好、耐 高溫、抗氧化、電阻系數(shù)小、耐腐蝕、易于精密機加工等優(yōu)點。