廈門(mén)光刻膠    美國(guó)光刻膠

顯影液NMD-3是一種光刻膠配套試劑，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體制造中的光刻工藝。

• ?主要成分?：2.38%(TMAH)水溶液
  

• ?包裝規(guī)格?：5升/瓶
  

• ?適用類(lèi)型?：適用于正、負(fù)性光刻膠的顯影，特別針對(duì)薄膠(厚度小于5μm)的顯影
  

• ?儲(chǔ)存條件?：需低溫儲(chǔ)存，通常要求在冰箱中保存
  

顯影液NMD-3作為光刻工藝中的關(guān)鍵化學(xué)品，具有以下技術(shù)特點(diǎn)：

• ?顯影機(jī)制?：通過(guò)溶解曝光過(guò)程中光刻膠形成的可溶解區(qū)域，使光刻膠上的圖案清晰顯

• ?工藝影響?：顯影液的性能直接影響芯片的制程精度和良率，需要經(jīng)受高溫、化學(xué)腐蝕等多種極端條件的考驗(yàn)

•