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排氣筒與排氣口相通。上盤的幾個圓孔是除塵區(qū)域和排氣區(qū)域通道。含塵氣流未從上盤12 個圓孔排出去之前，實際的氣流運動是很復雜的。除切向和軸向運動外還有徑向運動。這樣含塵氣流會反復經(jīng)過金屬網(wǎng)(支撐內(nèi)、外層金屬網(wǎng)的金屬桿相互錯列，很明顯能夠增加氣流穿過金屬網(wǎng)的次數(shù))。前文已詳細論過除塵機理,很容易看出慣性碰撞、接觸阻留、篩濾作用、擴散在這時將成為除塵的主要作用力。塵粒與氣流分離界面是內(nèi)、外兩層金屬網(wǎng)(包括上盤在內(nèi))。

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單晶爐構(gòu)成編輯=提拉頭：主要由安裝盤 減速機 籽晶腔 劃線環(huán) 電機 磁流體 籽晶稱重頭 軟波紋管等其他部件組成/副室：主要是副室筒以及上下法蘭組成/ 爐蓋：副室連接法蘭，翻板閥，觀察窗 抽真空管道 組成/爐筒：包括取光孔下爐筒：包括抽真空管道/底座機架：全鑄鐵機架和底座/坩堝下傳動裝置：主要由磁流體 電機 坩堝支撐軸 減速機 軟波紋管 立柱 上下傳動支撐架 導軌 等部件組成/分水器已經(jīng)水路布置：包括分水器，進水水管，若干膠管 水管卡套等/管道布置：質(zhì)量流量計 3根以上的柔性管 不銹鋼管 3個壓力探測器 高密封性卡套 等部件/真空泵以及真空除塵裝置：油壓真空泵 水環(huán)真空泵 過濾器 真空管道 硬波紋管等/電源以及電控柜：電源柜 濾波柜 控制柜 以及連接線分子泵回收，真空泵回收，真空流量計回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，單晶爐真空系統(tǒng)的除塵技術為便于分析研究起見，將整個除塵過程分為有聯(lián)系而又有區(qū)別的如下三個過程。捕集分離過程該過程可分為捕集推移階段和分離階段。 捕集推移階段　均勻混合或懸浮在氣體中的粉塵進入除塵器的除塵空間，根據(jù)不同的除塵器類型經(jīng)受不同的外力作用，將粉塵推移到分離界面。隨著粉塵向分離界面推移，濃度也越來越大，故捕集推移階段實質(zhì)也是粉塵濃縮的階段。分離階段　高濃度的塵流向分離界面以后，有兩種機理在起作用：氣體運載粉塵的能力將達到極限狀態(tài)，懸浮與沉降這對矛盾中，沉降成為主要方面，通過沉降，粉塵從氣體中分離出來。極限狀態(tài)的影響因素一般與氣流速度及邊壁的邊界條件有關。