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使肩部近似直角；然后，進入等徑工藝，通過控制熱場溫度和晶體提升速度，生長出一定直徑規(guī)格大小的單晶柱體；后，待大部分硅溶液都已經(jīng)完成結晶時，再將晶體逐漸縮小而形成一個尾形錐體，稱為收尾工藝。這樣一個單晶拉制過程基本完成，進行一定的保溫冷卻后可以取出。

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產品介紹：SG-XQL1400型箱式真空氣氛爐以硅碳棒為加熱元件，，采用智能化控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制；爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，保溫效果好；雙層殼體結構，帶有風冷和水冷系統(tǒng)，能快速降溫，爐門配有循環(huán)水冷，防止密封圈過快老化，保爐門與爐膽的可靠密封。主要用途和適用范圍\可應用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空或氣氛條件下的熱處理工藝。也用于冶金、機械、輕工、商檢、高等院校及科研部門、工礦企業(yè)電子陶瓷產品的預燒、燒結、釬焊等工藝。主要功能和特點：1、分子泵回收，真空泵回收，真空流量計回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，浮力提拉單晶爐提拉機構特性分析\一、引言 浮力提拉單晶爐(簡稱FTD)是利用浮力原理設計成的提拉式單晶爐帕,十多年來,用它先后生長成功了多種晶體〔2一5〕。這種爐子容易制造,成本低,易于推廣,目前國內已有幾個廠家使用它生產泥酸鏗單晶。作為一種發(fā)明,FTD也受到肯定和重視?？墒?FTD在問世以后,卻沒有進行深入探討。雖然FTD的設計有過幾次變化,但由于沒有掌握設計的則,致使FTD存在不同程度的提拉不均勻現(xiàn)象,嚴重地影響了它的推廣普及。為了改善它的提拉特性,我們研究了FTD浮力提拉原理,對多臺FTD作了分析對比,由此找出了提拉不均勻性產生的根源;明確了FTD提拉機構的設計要領。希望這-一卜作能夠推動FTD的發(fā)展.并有助于單晶的生長研究和生產。二、FTD浮力提拉原理、提拉不均性的產生習C^l 奮幽1吮止~乙二丁~二二二Dr1.甲一一一一一一1。}